ojú ìwé_àmì

Oruka seramiki Alumina ti o ga julọ fun Awọn Iyẹwu Ilana CVD / PVD

Oruka seramiki Alumina ti o ga julọ fun Awọn Iyẹwu Ilana CVD / PVD

Àpèjúwe Kúkúrú:

A ṣe àgbékalẹ̀ òrùka seramiki St.Cera fún lílò nínú àwọn yàrá ìṣiṣẹ́ CVD (Kẹ́míkà Vapor Deposition) àti PVD (Physical Vapor Deposition). A ṣe é láti inú alumina gíga-gíga (Al₂O₃), òrùka yìí ń ṣiṣẹ́ gẹ́gẹ́ bí àpò ìbòrí yàrá, òrùka ìfojúsùn, tàbí ohun èlò ìtọ́jú láti dín plasma kù àti láti dáàbò bo àwọn ògiri yàrá kúrò lọ́wọ́ ìfọ́. Ohun èlò náà ní agbára ìdènà plasma tó dára, agbára dielectric gíga (15×10⁶ V/m), àti ìdúróṣinṣin ooru títí dé 1600°C, èyí tí ó ń rí i dájú pé ó pẹ́ ní àwọn àyíká plasma tí ó ní fluorine. Ìfaradà ìwọ̀n pàtó (±0.05 mm lórí ID/OD) àti fífẹ̀ (≤10 μm) ń jẹ́ kí ipò etí wafer dúró déédéé, ó ń mú kí ìdúróṣinṣin ìpamọ́ sunwọ̀n sí i àti dín ìṣẹ̀dá pàǹtí kù.


Àlàyé Ọjà

Àwọn àmì ọjà

A ṣe àgbékalẹ̀ òrùka seramiki St.Cera fún lílò nínú àwọn yàrá ìṣiṣẹ́ CVD (Kẹ́míkà Vapor Deposition) àti PVD (Physical Vapor Deposition). A ṣe é láti inú alumina gíga-gíga (Al₂O₃), òrùka yìí ń ṣiṣẹ́ gẹ́gẹ́ bí àpò ìbòrí yàrá, òrùka ìfojúsùn, tàbí ohun èlò ìtọ́jú láti dín plasma kù àti láti dáàbò bo àwọn ògiri yàrá kúrò lọ́wọ́ ìfọ́. Ohun èlò náà ní agbára ìdènà plasma tó dára, agbára dielectric gíga (15×10⁶ V/m), àti ìdúróṣinṣin ooru títí dé 1600°C, èyí tí ó ń rí i dájú pé ó pẹ́ ní àwọn àyíká plasma tí ó ní fluorine. Ìfaradà ìwọ̀n pàtó (±0.05 mm lórí ID/OD) àti fífẹ̀ (≤10 μm) ń jẹ́ kí ipò etí wafer dúró déédéé, ó ń mú kí ìdúróṣinṣin ìpamọ́ sunwọ̀n sí i àti dín ìṣẹ̀dá pàǹtí kù.

 

Àwọn ìlànà pàtó (tí a gbé ka orí 99.8% Al₂O₃):

Ohun ìní Iye
Ohun èlò 99.8% Alumina (Ivory)
Ìwọ̀n 3.93 g/cm³
Ìfàmọ́ra Omi 0%
Agbára Rírọ̀ 361 MPa
Agbara ìfọ́ 3–4 MPa·m¹/²
Líle Vickers 16 GPA
Modulu Young 380 GPA
Ìgbékalẹ̀ Ooru 32 W/m·k
Ìfàsẹ́yìn Ooru (25–1000°C) 7.2×10⁻⁶/℃
Agbára Dielectric 15×10⁶ V/m
Atakora Pataki >10¹⁴ Ω·cm
Iwọn otutu iṣiṣẹ to pọ julọ 1600°C

 

Awọn ohun elo:

  • · Àwọn òrùka ìfojúsùn yàrá CVD àti àwọn òrùka etí
  • · Àwọn òrùka ààbò yàrá PVD àti àwọn òrùka dídì
  • · Àwọn ìbòrí yàrá ìpanu àti àwọn òrùka ìbòrí
  • · Àwọn òrùka ìdènà plasma nínú àwọn ètò ẹ̀rọ dielectric

 

Ilana Iṣelọpọ:

Ìtẹ̀sí Isostatic → ẹ̀rọ aláwọ̀ ewé → sínẹ́rì ní 1600°C → CNC ID/OD gígún → ìfọ́ ojú ilẹ̀ → ìwẹ̀nùmọ́ ultrasonic → Àyẹ̀wò CMM 100%. Ìparí ojú ilẹ̀ tó rọrùn (Ra ≤0.4 μm) dín ìsopọ̀ pàǹtí kù.

 

Iṣakoso Didara:

  • · Ṣíṣàyẹ̀wò ìwọ̀n 100% (ID, OD, sisanra, fífẹ̀)
  • · Àyẹ̀wò àwọ̀ fún àwọn ìfọ́ ojú ilẹ̀ kékeré
  • · Idanwo agbara Dielectric fun ASTM D149
  • · Kò sí àwọ̀ tàbí porosity tí a lè rí lábẹ́ amúrókírókírò 20×

 

Àwọn àǹfààní lórí òrùka irin tàbí quartz:

  • · 5–10× ọjọ́ ayé rẹ̀ gùn ju òrùka aluminiomu nínú plasma fluorine lọ
  • · Ko si idoti irin ninu awọn fiimu tinrin
  • · Agbara pilasima ti o ga ju quartz lọ (ko si awọn ihò iparun)
  • · Ó ń tọ́jú ìdábòbò iná mànàmáná >10¹⁴ Ω·cm kódà lẹ́yìn lílo rẹ̀ fún ìgbà pípẹ́

 

Ohun Èlò Míràn — Silicon Nitride (Si)N):

Fún àwọn ohun èlò tí ó nílò agbára ìfọ́ egungun tó ga jù (6.2 MPa·m¹/²) àti agbára ìgbóná tó dára jù (ìwọ̀n ìfàsẹ́yìn 3.2×10⁻⁶/℃), àwọn òrùka Si₃N₄ wà. Síbẹ̀síbẹ̀, alumina jẹ́ èyí tó wúlò jù fún ọ̀pọ̀lọpọ̀ àwọn ohun èlò CVD/PVD. Jọ̀wọ́ sọ ohun tí o fẹ́ nígbà tí o bá ń pàṣẹ.

 

Ṣíṣe àtúnṣe:

  • · Àwọn ihò inú ihò, àwọn ìtẹ̀gùn àtẹ̀gùn, tàbí àwọn ibi tí a lè gbé nǹkan sí fún gbígbé nǹkan
  • · Ojú tí a fi Y₂O₃ bò fún ìdènà plasma tí ó pọ̀ sí i (àṣàyàn)
  • · Fífi léṣà ṣe àwòrán nọ́mbà apá kan / kódù pààkì

 

Àkíyèsí:Àwọn dátà tí a kọ sí òkè yìí tẹ̀lé tábìlì ohun ìní Al₂O₃ tí a pèsè ní pàtó. Fún àwọn òrùka Si₃N₄, wo ìwé ìdámọ̀ràn Si₃N₄ tí a pèsè.


  • Ti tẹlẹ:
  • Itele: