ojú ìwé_àmì

Bernoulli Ceramic Effector — Ìmúlò Wafer Tí Kò Ní Kan Síra Fún Àwọn Wafer Tínrin àti Tí Ó Rọrùn

Bernoulli Ceramic Effector — Ìmúlò Wafer Tí Kò Ní Kan Síra Fún Àwọn Wafer Tínrin àti Tí Ó Rọrùn

Àpèjúwe Kúkúrú:

Ẹ̀rọ ìparí seramiki Bernoulli ti St.Cera lo aerodynamic lift láti gbá àwọn wafers láìsí ìfọwọ́kan ara. A ṣe é láti inú alumina gíga 99.8% (Al₂O₃) tàbí silicon carbide (SiC), ó ní àwọn nozzles tí a fi ẹ̀rọ ṣe tí ó ń yọ gaasi tí a fi agbára tẹ̀ jáde láti ṣẹ̀dá fíìmù afẹ́fẹ́ tín-ín-rín láàárín olùṣe ìparí àti wafer náà. Ìlànà tí kò ní ìfọwọ́kan yìí ń mú kí ìbàjẹ́ ẹ̀yìn, ìfọ́ etí, àti ìbàjẹ́ ojú ilẹ̀ kúrò, èyí tí ó mú kí ó dára fún àwọn wafer tín-ín-rín (≤100 μm), àwọn wafer tí ó jẹ́ ẹlẹ́gẹ́, tàbí tí ó yípo. Sọ́fítíkì náà ń fúnni ní agbára ìfọ́ gíga (361 MPa fún Al₂O₃; títí dé 550–600 MPa fún SiC), ìwọ̀n tí ó kéré, àti ìdúróṣinṣin oníwọ̀n tí ó tayọ, tí ó ń rí i dájú pé a ń tún un ṣe nínú àwọn roboti gbigbe wafer iyara gíga.


Àlàyé Ọjà

Àwọn àmì ọjà

Ẹ̀rọ ìparí seramiki Bernoulli ti St.Cera lo aerodynamic lift láti gbá àwọn wafers láìsí ìfọwọ́kan ara. A ṣe é láti inú alumina gíga 99.8% (Al₂O₃) tàbí silicon carbide (SiC), ó ní àwọn nozzles tí a fi ẹ̀rọ ṣe tí ó ń yọ gaasi tí a fi agbára tẹ̀ jáde láti ṣẹ̀dá fíìmù afẹ́fẹ́ tín-ín-rín láàárín olùṣe ìparí àti wafer náà. Ìlànà tí kò ní ìfọwọ́kan yìí ń mú kí ìbàjẹ́ ẹ̀yìn, ìfọ́ etí, àti ìbàjẹ́ ojú ilẹ̀ kúrò, èyí tí ó mú kí ó dára fún àwọn wafer tín-ín-rín (≤100 μm), àwọn wafer tí ó jẹ́ ẹlẹ́gẹ́, tàbí tí ó yípo. Sọ́fítíkì náà ń fúnni ní agbára ìfọ́ gíga (361 MPa fún Al₂O₃; títí dé 550–600 MPa fún SiC), ìwọ̀n tí ó kéré, àti ìdúróṣinṣin oníwọ̀n tí ó tayọ, tí ó ń rí i dájú pé a ń tún un ṣe nínú àwọn roboti gbigbe wafer iyara gíga.

Akiyesi lori Awọn Ohun elo:Alumina (Al₂O₃) ni ohun elo ti a lo julọ fun awọn oluyipada opin seramiki ninu mimu wafer semiconductor nitori apapọ rẹ ti lile, idabobo ina, iduroṣinṣin kemikali, ati imunadoko-owo. Silicon carbide (SiC) nfunni ni agbara ooru ti o ga julọ, lile ti o ga julọ, ati paapaa resistance yiya ti o dara julọ fun awọn ohun elo ti o nilo julọ. Lakoko ti yttria-stabilized zirconia (ZrO₂) nfunni ni agbara fifọ giga ni iwọn otutu yara, a ko lo o nigbagbogbo ninu ohun elo yii nitori iwuwo giga rẹ ati awọn abuda imugboro ooru oriṣiriṣi; o le ṣe akiyesi fun awọn ipo kan pato nibiti a nilo agbara fifọ alailẹgbẹ. Jọwọ kan si ẹgbẹ imọ-ẹrọ wa fun itọsọna yiyan ohun elo.

 

Àwọn ìlànà pàtó(da lori 99.8% AlO):


Ohun ìní
  Iye (AlO)
Ohun èlò   99.8% Alumina
Ìwọ̀n   3.93 g/cm³
Agbára Rírọ̀   361 MPa
Agbara ìfọ́   3–4 MPa·m¹/²
Líle Vickers   16 GPA
Modulu Young   380 GPA
Ìfàsẹ́yìn Ooru (25–1000°C)   7.2×10⁻⁶/℃
Iwọn otutu iṣiṣẹ to pọ julọ   800°C (afẹ́fẹ́)
Ríru ojú (tí ó dojúkọ wáfárì)   Ra ≤0.4 μm

 

Ilana Iṣiṣẹ:

Afẹ́fẹ́ tàbí nitrogen tí a fi sínú omi (0.2–0.6 MPa) ni a ń pèsè nípasẹ̀ àwọn ọ̀nà inú àti àwọn ìjáde nípasẹ̀ àwọn ihò tí ó péye. Afẹ́fẹ́ afẹ́fẹ́ tí ó yára ń ṣẹ̀dá agbègbè ìfúnpá kékeré tí ó wà lókè olùṣe ìparí (ìpa Bernoulli), tí ó ń mú agbára ìgbéga tí ó ń gbé wafer ró ní àlàfo 50–200 μm. Kò sí ihò tàbí àwọn pádì tí ó kan ẹ̀yìn wafer náà.

 

Awọn ohun elo:

  • · Ìmúlò wafer tinrin (≤50 μm) lẹ́yìn lílọ ẹ̀yìn
  • · Gbigbe wafer ti o ni abawọn (fun apẹẹrẹ, lẹhin CVD tabi fifin)
  • · Gbigbe sẹẹli oorun ati ipilẹ sapphire LED
  • · Adaṣiṣẹ yara mimọ ti ko nilo iṣelọpọ patiku odo
  • · Mimu awọn paneli gilasi ṣiṣẹ ni iṣelọpọ ifihan

 

Ilana Iṣelọpọ:

Sẹ́ẹ̀tì seramiki tí a fi lulú mímọ́ tónítóní ṣe → ẹ̀rọ CNC oní-axis 5 ti àwọn ikanni gaasi àti ihò ihò (ìwọ̀n iwọ̀n 0.3–1.0 mm, ìfaradà ±0.01 mm) → ìfàmọ́ ojú ilẹ̀ sí Ra ≤0.4 μm → ìwẹ̀nùmọ́ ultrasonic → ìdánwò jíjó helium (àwọn ikanni gaasi). Kò sí ìbòrí tí a nílò — ojú seramiki tí kò ní ìta kò ní ìbàjẹ́, kò sì ní èérí.

 

Iṣakoso Didara:

  • · Ayẹwo iwọn 100% (CMM) ti awọn ipo awọn ihò, gigun apa, ati fifẹ
  • · Idanwo iṣọkan sisan afẹfẹ: idinku titẹ ≤5% kọja gbogbo awọn nozzles
  • · Idanwo jijo: awọn ikanni gaasi ti a di mọ ni 0.6 MPa, ko si idinku titẹ lori awọn aaya 30
  • · Ayẹwo oju labẹ maikirosikopu 20× fun awọn kikan tabi awọn fifọ kekere

 

AÀwọn àǹfààní tó ju àwọn olùṣe ìfọwọ́sowọ́pọ̀ ìfọwọ́sowọ́pọ̀ lọ:

  • · Kò sí ìbàjẹ́ ẹ̀yìn wafer — kò sí ìfọwọ́kan ẹ̀rọ
  • · Kò sí ìfọ́ tàbí ìfọ́ àwọn wáfárì tín-tín
  • · Ó ń tọ́jú àwọn wáfárì onígun mẹ́rin (tó tó 1 mm) pẹ̀lú àlàfo tó dúró ṣinṣin
  • · Pa ẹ̀rọ amúlétutù àti ìtọ́jú chuck oníhò run kúrò
  • · Ìkọ́lé seramiki lòdì sí ìbàjẹ́ àti ìkọlù kẹ́míkà

 

Ṣíṣe àtúnṣe:

  • · Ó wà fún ìwọ̀n 200 mm, 300 mm, tàbí àwọn ìwọ̀n wafer tí a ṣe àdáni
  • · Àwọn àpẹẹrẹ ìdènà gaasi: àwọn irú ìdènà gígùn, onígun mẹ́rin, tàbí ìyípo
  • · Àwọn ohun èlò: alumina (boṣewa) tàbí silikoni carbide (fún agbára ìgbóná tó ga jùlọ àti ìdènà ìwúwo)
  • · Gígùn apá, flange ìsopọ̀, àti ipò ibudo gaasi fún àwòrán OEM kọ̀ọ̀kan

 

Awọn idiwọn:

Ìmúṣe ìlànà Bernoulli (àwòrán nozzle, àlàfo afẹ́fẹ́) kọjá ààlà àwọn tábìlì ohun èlò tí a pèsè. Àwọn ohun ìní ẹ̀rọ àti ooru tí a kọ sí òkè yìí tẹ̀lé àwọn ìwé àkọsílẹ̀ tí a pèsè fún 99.8% Al₂O₃. A kò retí ìbàjẹ́ iṣẹ́ seramiki lábẹ́ ìṣàn gaasi tí a fi agbára tẹ̀ nítorí àwọn ohun ìní ohun èlò wọ̀nyí. Fún àwọn wafers tí ó ní ìmọ̀lára sí ìṣàn gaasi (fún àpẹẹrẹ, MEMS pẹ̀lú àwọn ohun èlò tí ó jẹ́ ẹlẹgẹ́), a gbọ́dọ̀ ṣàtúnṣe ìfúnpá gaasi àti àwòrán nozzle gẹ́gẹ́ bí ó ti yẹ.


  • Ti tẹlẹ:
  • Itele: