ojú ìwé_àmì

Oruka Idojukọ Iyẹwu Alumina Giga-Gíga fun Awọn Eto Etch Plasma & CVD

Oruka Idojukọ Iyẹwu Alumina Giga-Gíga fun Awọn Eto Etch Plasma & CVD

Àpèjúwe Kúkúrú:

Oruka idojukọ yàrá St.Cera jẹ́ ohun èlò ìṣiṣẹ́ pàtàkì tí a ń lò nínú ẹ̀rọ ìtẹ̀wé plasma, CVD, àti PVD semiconductor. A ṣe é láti inú 99.8% alumina gíga (Al₂O₃), òrùka náà yí etí wafer ká láti dín plasma kù kí ó sì mú kí ìpínkiri igun ion dára síi, nípa bẹ́ẹ̀ ó ń mú kí ìṣọ̀kan etch pọ̀ síi lórí ojú wafer náà. Ohun èlò náà ní agbára ìdènà plasma tí ó tayọ, agbára dielectric gíga (15×10⁶ V/m), àti ìdúróṣinṣin ooru títí dé 1600°C, èyí tí ó ń rí i dájú pé ó ṣeé gbẹ́kẹ̀lé fún ìgbà pípẹ́ nínú àwọn àyíká plasma tí ó ní fluorine tàbí chlorine. ID/OD ilẹ̀ tí ó péye àti fífẹ̀ (≤10 μm) ń jẹ́ kí ipò etí wafer tí ó péye, tí ó ń dín àwọn àbùkù etí àti ìṣẹ̀dá pàǹtí kù.


Àlàyé Ọjà

Àwọn àmì ọjà

Oruka idojukọ yàrá St.Cera jẹ́ ohun èlò ìṣiṣẹ́ pàtàkì tí a ń lò nínú ẹ̀rọ ìtẹ̀wé plasma, CVD, àti PVD semiconductor. A ṣe é láti inú 99.8% alumina gíga (Al₂O₃), òrùka náà yí etí wafer ká láti dín plasma kù kí ó sì mú kí ìpínkiri igun ion dára síi, nípa bẹ́ẹ̀ ó ń mú kí ìṣọ̀kan etch pọ̀ síi lórí ojú wafer náà. Ohun èlò náà ní agbára ìdènà plasma tí ó tayọ, agbára dielectric gíga (15×10⁶ V/m), àti ìdúróṣinṣin ooru títí dé 1600°C, èyí tí ó ń rí i dájú pé ó ṣeé gbẹ́kẹ̀lé fún ìgbà pípẹ́ nínú àwọn àyíká plasma tí ó ní fluorine tàbí chlorine. ID/OD ilẹ̀ tí ó péye àti fífẹ̀ (≤10 μm) ń jẹ́ kí ipò etí wafer tí ó péye, tí ó ń dín àwọn àbùkù etí àti ìṣẹ̀dá pàǹtí kù.


Àwọn ìlànà pàtó(da lori 99.8% AlO):

Ohun ìní Iye
Ohun èlò 99.8% Alumina (Ivory)
Ìwọ̀n 3.93 g/cm³
Ìfàmọ́ra Omi 0%
Agbára Rírọ̀ 361 MPa
Agbara ìfọ́ 3–4 MPa·m¹/²
Líle Vickers 16 GPA
Modulu Young 380 GPA
Ìgbékalẹ̀ Ooru 32 W/m·k
Ìfàsẹ́yìn Ooru (25–1000°C) 7.2×10⁻⁶/℃
Agbára Dielectric 15×10⁶ V/m
Atakora Pataki >10¹⁴ Ω·cm
Iwọn otutu iṣiṣẹ to pọ julọ 1600°C

 

Awọn ohun elo:

  • · Àwọn òrùka ìfọwọ́sowọ́pọ̀ yàrá ìfọ́mọ́ra Dielectric (oxide, nitride etch)
  • · Àwọn òrùka etí yàrá silikoni etch
  • · Àwọn òrùka iṣẹ́ yàrá CVD
  • · Apata iyẹwu PVC ati awọn oruka dimole

 

Ilana Iṣelọpọ:

A tẹ lulú alumina mímọ́ tó ga jùlọ ní ọ̀nà tó yàtọ̀ sí ara wọn → a fi ewé ṣe ẹ̀rọ aláwọ̀ ewé sí ìrísí tó sún mọ́ ààyò → a fi sín in ní 1600°C → CNC diamond grinding of ID, OD, and circulating → lapping láti dé pẹrẹsẹ ≤10 μm → ultrasonic cleaning → 100% CMM view. Ipari oju Ra ≤0.4 μm dinku clutch stitching.

 

Iṣakoso Didara:

  • · Ayẹwo iwọn 100% (ID, OD, sisanra, parallelism)
  • · Idanwo wíwọ àwọ̀ fún àwọn ìfọ́ kékeré (kò gbà láàyè láti fọ́)
  • · Ayẹwo oju labẹ maikirosikopu 20× — ko si awọn eerun, awọn ofo, tabi iyipada awọ
  • · Idanwo agbara Dielectric fun ASTM D149 (iṣapẹẹrẹ)

 

Àwọn àǹfààní lórí àwọn òrùka ìfojúsùn sílíkónì tàbí quartz:

  • · Ìgbésí ayé gígùn tó 5–10× nínú pilasima fluorocarbon
  • · Ko si awọn patikulu ibajẹ ti o le jẹ lati ba awọn wafer jẹ
  • · Agbara dielectric ti o ga julọ ṣe idiwọ arcing
  • · N ṣetọju fifẹ ati deede iwọn lori ẹgbẹẹgbẹrun awọn wakati RF

 

Ohun Èlò Míràn — Yttria-Stable Zirconia (ZrO2)):

Fún àwọn ohun èlò tí ó nílò agbára ìfọ́ egungun gíga (fún àpẹẹrẹ, àwọn yàrá tí ó ní ìyípo ooru déédéé tàbí ìkọlù ẹ̀rọ), àwọn òrùka ìfọ́ egungun ZrO₂ (ìwọ̀n 6.03 g/cm³, agbára ìfọ́ egungun 1000 MPa, agbára ìfọ́ egungun 5–8 MPa·m¹/²) wà. Síbẹ̀síbẹ̀, alumina ní agbára ìnáwó tó dára jù, ó sì jẹ́ ìwọ̀n iṣẹ́ fún ọ̀pọ̀lọpọ̀ àwọn ohun èlò ìfọ́ egungun.

 

Ṣíṣe àtúnṣe:

  • · Gbé àwọn profaili ìgbésẹ̀, àwọn ihò ìdènà, tàbí àwọn ihò ìfìsórí fún àwòrán oníbàárà kọ̀ọ̀kan
  • · Ìbòrí Y₂O₃ fún ìdènà ìfọ́ omi inú ẹ̀jẹ̀ (nínípọn 20–100 μm)
  • · Àmì léésà ti nọ́mbà apá kan, kódù ọjọ́, tàbí àmì ìtòlẹ́sẹẹsẹ

 

Àkíyèsí:Gbogbo data naa tẹle tabili ohun-ini Al₂O₃ ti a pese ni pipe. Fun awọn alaye ZrO₂, wo iwe data zirconia ti a pese. Awọn apẹrẹ oruka idojukọ le nilo ifọwọsi iwe-aṣẹ - awọn alabara ni o ni iduro fun ṣiṣeduro awọn ẹtọ ohun-ini ọgbọn.


  • Ti tẹlẹ:
  • Itele: