Àwo Pínpín Gaasi Alumina fún Orí Ìwẹ̀ CVD/PVD
A fi apẹ pinpin gaasi St.Cera (orí ìwẹ̀) ṣe é láti inú seramiki alumina tó ní ìmọ́tótó tó ga tó 99.8%. Ó ní ọ̀pọ̀lọpọ̀ ihò kékeré (ìwọ̀n 0.3–1.5 mm) tó ń rí i dájú pé gaasi náà ń ṣàn káàkiri ojú wafer nígbà tí a bá ń ṣe CVD, PVD, tàbí ALD. Agbára dielectric gíga tí a fi ṣe àwo náà (>15×10⁶ V/m) àti ìdènà plasma mú kí ó ṣe pàtàkì fún ìfipamọ́ fíìmù semiconductor.
Àwọn ìlànà pàtó:
| Ohun ìní | Iye |
| Ohun èlò | 99.8% Al₂O₃ tàbí SiC |
| Iwọn opin | 100 – 1500mm (yika) tabi onigun mẹrin |
| Sisanra | 5 – 20 mm |
| Iwọn Iwọn | 0.3 – 1.5 mm |
| Àpẹẹrẹ Iho | Àṣà (onígun mẹ́ta, onígun mẹ́rin, radial) |
| Pípẹ́típẹ́tí | ≤10 μm lórí gbogbo agbègbè |
| Ríru ojú | Ra ≤0.6 μm (ẹgbẹ́ gáàsì) |
| Ìpíndọ́gba Àgbègbè Ṣíṣí sílẹ̀ | 5–15% |
Awọn ohun elo:
Àwọn àwo orí ìwẹ̀ PECVD
Àwọn abẹ́rẹ́ gaasi ALD
Àwọn àwo pínpín gaasi iyàrá Etch
Awọn paati riakito MOCVD
Iṣelọpọ:
Alumina substrate ti a fi lamp → CNC lilu pẹlu awọn irinṣẹ ti a fi okuta iyebiye bo (ifarada ipo iho ±0.02 mm) → deburring → mimọ ultrasonic → Iṣakojọpọ kilasi 100.
Iṣakoso Didara:
A ṣe àyẹ̀wò gbogbo àwo náà 100% fún ìwọ̀n ihò (ètò ìran), fífẹ̀ (interferometer laser), àti ìbáramu ìṣàn gáàsì (ìṣàfihàn titẹ). Kò sí àwọn ìfọ́ kékeré lábẹ́ microscope 20x.
Àwọn àǹfààní lórí àwọn àwo irin:
Ko si idoti irin ninu awọn fiimu tinrin
Ìṣẹ̀dá àwọn ohun èlò ìpalára kékeré (kò sí àwọn ìfọ́ ìbàjẹ́)
Ó ń fara da àwọn ìfọ́mọ́ra tí ó lágbára (CF₄, NF₃)
Awọn ẹya ara ẹrọ aṣa:
Àwọn ọ̀nà gáàsì ẹ̀yìn, àwọn ihò tí ó ní ìfàsẹ́yìn, àwọn èdìdì etí, àti àwọn ìpele ohun èlò tó yàtọ̀ síra (SiC fún ìfàsẹ́yìn ooru tó ga jù, ìbòrí Y₂O₃ fún ìdènà plasma).
A pese ijẹrisi CAD ati iṣapẹẹrẹ sisan ṣaaju iṣelọpọ.
