ojú ìwé_àmì

Àwọn Ohun Èlò Aláìsí-méjì

  • Ṣíṣe àdáni ti Al2O3 seramiki wafer Chuck

    Ṣíṣe àdáni ti Al2O3 seramiki wafer Chuck

    A ṣe é nípa títẹ isostatic tútù tí a sì fi síntì lábẹ́ ooru gíga, lẹ́yìn náà a fi ẹ̀rọ tí ó péye ṣe é tí a sì fi dán an wò, àwọn ohun èlò ìtọ́jú seramiki náà lè bá àwọn ohun èlò semiconductor mu pẹ̀lú àwọn ànímọ́ rẹ̀ bíi resistance yíyà, resistance ipata, ìfàsẹ́yìn ooru tí ó lọ sílẹ̀, àti ìdábòbò. Àwọn ohun èlò seramiki lè ṣiṣẹ́ nínú ọ̀pọ̀lọpọ̀ irú ohun èlò ìṣẹ̀dá semiconductor pẹ̀lú ipò otutu gíga, vacuum tàbí corrosion gaasi fún ìgbà pípẹ́.

    A ṣe é láti inú lulú alumina tó mọ́ tónítóní, tí a fi ìtẹ̀sí isostatic tútù ṣe, síntering otutu tó ga àti ìparí pípé, ó lè dé ìfaradà ìwọ̀n sí ±0.001 mm, ìparí ojú ilẹ̀ Ra 0.1, ìfaradà otutu sí 1600℃.

  • ST.CERA Ohun elo Semiconductor ti a ṣe adani Awo Seramiki

    ST.CERA Ohun elo Semiconductor ti a ṣe adani Awo Seramiki

    A ṣe é nípa títẹ isostatic tútù tí a sì fi síntì lábẹ́ ooru gíga, lẹ́yìn náà a fi ẹ̀rọ tí ó péye ṣe é tí a sì fi dán an wò, àwọn ohun èlò ìtọ́jú seramiki náà lè bá àwọn ohun èlò semiconductor mu pẹ̀lú àwọn ànímọ́ rẹ̀ bíi resistance yíyà, resistance ipata, ìfàsẹ́yìn ooru tí ó lọ sílẹ̀, àti ìdábòbò. Àwọn ohun èlò seramiki lè ṣiṣẹ́ nínú ọ̀pọ̀lọpọ̀ irú ohun èlò ìṣẹ̀dá semiconductor pẹ̀lú ipò otutu gíga, vacuum tàbí corrosion gaasi fún ìgbà pípẹ́.

    A ṣe é láti inú lulú alumina tó mọ́ tónítóní, tí a fi ìtẹ̀sí isostatic tútù ṣe, síntering otutu tó ga àti ìparí pípé, ó lè dé ìfaradà ìwọ̀n sí ±0.001 mm, ìparí ojú ilẹ̀ Ra 0.1, ìfaradà otutu sí 1600℃.

  • Ẹ̀rọ ìpamọ́ alumina 12-Inch fún ìtọ́jú wafer 300mm

    Ẹ̀rọ ìpamọ́ alumina 12-Inch fún ìtọ́jú wafer 300mm

    A ṣe àgbékalẹ̀ ìfọ́mọ́ ìfọ́mọ́ ìyẹ́n 12 ti St.Cera láti inú alumina gíga-gíga (Al₂O₃) fún mímú wafer 300mm. Iṣẹ́ náà ní ojú ilẹ̀ tí a fi àlàfo gún (ìwọ̀n ihò 0.5–1.0 mm, ìpele 2–3 mm) láti rí i dájú pé a pín in sí gbogbo ìwọ̀n 300mm. A ń tọ́jú rẹ̀ dáadáa láàrín 5 μm, èyí tí ó ń jẹ́ kí a lè fi wafer tí kò ní ìfọ́mọ́ nígbà tí a bá ń gé e, tí a ń lọ̀ sí ẹ̀yìn, àti tí a ń ṣe àyẹ̀wò rẹ̀. Agbára ìfọ́mọ́ ìfọ́mọ́ ìyẹ́n gíga ti ohun èlò náà (361 MPa) àti líle (16 GPa) ń ṣe ìdánilójú ìdúróṣinṣin oníwọ̀n ìgbà pípẹ́ kódà lábẹ́ àwọn ìyípo ìfọ́mọ́ tí a ń tún ṣe.

  • Àwọn Ohun Èlò Ìwádìí Semiconductor fún Àwọn Ohun Èlò Ìwádìí Semiconductor

    Àwọn Ohun Èlò Ìwádìí Semiconductor fún Àwọn Ohun Èlò Ìwádìí Semiconductor

    A ṣe é nípa títẹ isostatic tútù tí a sì fi síntì lábẹ́ ooru gíga, lẹ́yìn náà a fi ẹ̀rọ tí ó péye ṣe é tí a sì fi dán an wò, àwọn ohun èlò ìtọ́jú seramiki náà lè bá àwọn ohun èlò semiconductor mu pẹ̀lú àwọn ànímọ́ rẹ̀ bíi resistance yíyà, resistance ipata, ìfàsẹ́yìn ooru tí ó lọ sílẹ̀, àti ìdábòbò. Àwọn ohun èlò seramiki lè ṣiṣẹ́ nínú ọ̀pọ̀lọpọ̀ irú ohun èlò ìṣẹ̀dá semiconductor pẹ̀lú ipò otutu gíga, vacuum tàbí corrosion gaasi fún ìgbà pípẹ́.

    A ṣe é láti inú lulú alumina tó mọ́ tónítóní, tí a fi ìtẹ̀sí isostatic tútù ṣe, síntering otutu tó ga àti ìparí pípé, ó lè dé ìfaradà ìwọ̀n sí ±0.001 mm, ìparí ojú ilẹ̀ Ra 0.1, ìfaradà otutu sí 1600℃.

  • Ẹrù Ohun Èlò Semiconductor Awo Seramiki

    Ẹrù Ohun Èlò Semiconductor Awo Seramiki

    A ṣe é nípa títẹ isostatic tútù tí a sì fi síntì lábẹ́ ooru gíga, lẹ́yìn náà a fi ẹ̀rọ tí ó péye ṣe é tí a sì fi dán an wò, àwọn ohun èlò ìtọ́jú seramiki náà lè bá àwọn ohun èlò semiconductor mu pẹ̀lú àwọn ànímọ́ rẹ̀ bíi resistance yíyà, resistance ipata, ìfàsẹ́yìn ooru tí ó lọ sílẹ̀, àti ìdábòbò. Àwọn ohun èlò seramiki lè ṣiṣẹ́ nínú ọ̀pọ̀lọpọ̀ irú ohun èlò ìṣẹ̀dá semiconductor pẹ̀lú ipò otutu gíga, vacuum tàbí corrosion gaasi fún ìgbà pípẹ́.

    A ṣe é láti inú lulú alumina tó mọ́ tónítóní, tí a fi ìtẹ̀sí isostatic tútù ṣe, síntering otutu tó ga àti ìparí pípé, ó lè dé ìfaradà ìwọ̀n sí ±0.001 mm, ìparí ojú ilẹ̀ Ra 0.1, ìfaradà otutu sí 1600℃.

  • Ohun elo Semiconductor Awọn ẹya ara Seramiki

    Ohun elo Semiconductor Awọn ẹya ara Seramiki

    A ṣe é nípa títẹ isostatic tútù tí a sì fi síntì lábẹ́ ooru gíga, lẹ́yìn náà a fi ẹ̀rọ tí ó péye ṣe é tí a sì fi dán an wò, àwọn ohun èlò ìtọ́jú seramiki náà lè bá àwọn ohun èlò semiconductor mu pẹ̀lú àwọn ànímọ́ rẹ̀ bíi resistance yíyà, resistance ipata, ìfàsẹ́yìn ooru tí ó lọ sílẹ̀, àti ìdábòbò. Àwọn ohun èlò seramiki lè ṣiṣẹ́ nínú ọ̀pọ̀lọpọ̀ irú ohun èlò ìṣẹ̀dá semiconductor pẹ̀lú ipò otutu gíga, vacuum tàbí corrosion gaasi fún ìgbà pípẹ́.

    A ṣe é láti inú lulú alumina tó mọ́ tónítóní, tí a fi ìtẹ̀sí isostatic tútù ṣe, síntering otutu tó ga àti ìparí pípé, ó lè dé ìfaradà ìwọ̀n sí ±0.001 mm, ìparí ojú ilẹ̀ Ra 0.1, ìfaradà otutu sí 1600℃.

  • Òrùka Seal Alumina Alumina Aláìléwu Gíga fún Ìdìdì Iyẹwu Gíga Gíga

    Òrùka Seal Alumina Alumina Aláìléwu Gíga fún Ìdìdì Iyẹwu Gíga Gíga

    A ṣe òrùka seramiki ti St.Cera gẹ́gẹ́ bí àyípadà sí àwọn òrùka O-polymer ní àwọn àyíká tí ó le koko níbi tí àwọn elastomers ti ń ba jẹ́. A ṣe òrùka seal líle yìí láti inú 99.8% alumina oníwà mímọ́ gíga (Al₂O₃), a ń lo òrùka seal líle yìí nínú àwọn ohun èlò seal tí kò dúró — tí a sábà máa ń so pọ̀ mọ́ gasket irin rírọ̀ tàbí graphite — láti pèsè ìdènà afẹ́fẹ́ tàbí gáàsì tí ó ṣeé gbẹ́kẹ̀lé ní àwọn iwọ̀n otútù tó dé 800°C àti ní àwọn àyíká plasma tàbí kẹ́míkà oníjàgídíjàgan. Ohun èlò náà ní agbára ìjákulẹ̀ tí kò ní ìjákulẹ̀, agbára ìfúnpọ̀ gíga (agbára flexural tí ó wà lábẹ́ 361 MPa), àti àìlera kẹ́míkà (tí ó le kojú àwọn halogens, acids, àti alkalis àyàfi HF). Àwọn ojú ìdè tí a fi ìlà ṣe (pípẹ́ ≤5 μm, àìlera ojú Ra ≤0.2 μm) ń rí i dájú pé ó ní ìfọwọ́sowọ́pọ̀ pẹ̀lú àwọn èròjà irin tàbí seramiki tí ó ní ìbáṣepọ̀.

  • Oruka Idojukọ Iyẹwu Alumina Giga-Gíga fun Awọn Eto Etch Plasma & CVD

    Oruka Idojukọ Iyẹwu Alumina Giga-Gíga fun Awọn Eto Etch Plasma & CVD

    Oruka idojukọ yàrá St.Cera jẹ́ ohun èlò ìṣiṣẹ́ pàtàkì tí a ń lò nínú ẹ̀rọ ìtẹ̀wé plasma, CVD, àti PVD semiconductor. A ṣe é láti inú 99.8% alumina gíga (Al₂O₃), òrùka náà yí etí wafer ká láti dín plasma kù kí ó sì mú kí ìpínkiri igun ion dára síi, nípa bẹ́ẹ̀ ó ń mú kí ìṣọ̀kan etch pọ̀ síi lórí ojú wafer náà. Ohun èlò náà ní agbára ìdènà plasma tí ó tayọ, agbára dielectric gíga (15×10⁶ V/m), àti ìdúróṣinṣin ooru títí dé 1600°C, èyí tí ó ń rí i dájú pé ó ṣeé gbẹ́kẹ̀lé fún ìgbà pípẹ́ nínú àwọn àyíká plasma tí ó ní fluorine tàbí chlorine. ID/OD ilẹ̀ tí ó péye àti fífẹ̀ (≤10 μm) ń jẹ́ kí ipò etí wafer tí ó péye, tí ó ń dín àwọn àbùkù etí àti ìṣẹ̀dá pàǹtí kù.

  • Oruka seramiki Alumina ti o ga julọ fun Awọn Iyẹwu Ilana CVD / PVD

    Oruka seramiki Alumina ti o ga julọ fun Awọn Iyẹwu Ilana CVD / PVD

    A ṣe àgbékalẹ̀ òrùka seramiki St.Cera fún lílò nínú àwọn yàrá ìṣiṣẹ́ CVD (Kẹ́míkà Vapor Deposition) àti PVD (Physical Vapor Deposition). A ṣe é láti inú alumina gíga-gíga (Al₂O₃), òrùka yìí ń ṣiṣẹ́ gẹ́gẹ́ bí àpò ìbòrí yàrá, òrùka ìfojúsùn, tàbí ohun èlò ìtọ́jú láti dín plasma kù àti láti dáàbò bo àwọn ògiri yàrá kúrò lọ́wọ́ ìfọ́. Ohun èlò náà ní agbára ìdènà plasma tó dára, agbára dielectric gíga (15×10⁶ V/m), àti ìdúróṣinṣin ooru títí dé 1600°C, èyí tí ó ń rí i dájú pé ó pẹ́ ní àwọn àyíká plasma tí ó ní fluorine. Ìfaradà ìwọ̀n pàtó (±0.05 mm lórí ID/OD) àti fífẹ̀ (≤10 μm) ń jẹ́ kí ipò etí wafer dúró déédéé, ó ń mú kí ìdúróṣinṣin ìpamọ́ sunwọ̀n sí i àti dín ìṣẹ̀dá pàǹtí kù.

  • Aṣọ ìfọṣọ seramiki ti ko ni iho fun mimu Wafer ti o ni iyipo

    Aṣọ ìfọṣọ seramiki ti ko ni iho fun mimu Wafer ti o ni iyipo

    A ṣe àgbékalẹ̀ ìkòkò seramiki oníhò tí ó ní alumina tí ó ní ìpìlẹ̀ tó ga jùlọ pẹ̀lú ihò oníhò tí ó ṣí sílẹ̀ tí ó tó 30–45% àti ìwọ̀n ihò láti 10 sí 100 μm. Láìdàbí àwọn ìkòkò oníhò tí a ti ṣe tẹ́lẹ̀, ojú ilẹ̀ oníhò náà ń pèsè ìkòkò tí a pín káàkiri gbogbo ẹ̀yìn wafer, ó ń di àwọn wafer tí ó yípo, tín-tín, tàbí tí a ti fi sí ara wọn mú láìsí gbígbé eékún tàbí ìfọ́. Ìkòkò oníhò tí ó rọrùn (tí a lè ṣàtúnṣe nípasẹ̀ ohun tí ó ń dínkù) tún ń dènà àmì ẹ̀yìn.

  • Alumina-Da lori iho seramiki igbale Chuck fun Tinrin Wafer mimu

    Alumina-Da lori iho seramiki igbale Chuck fun Tinrin Wafer mimu

    A ṣe àwokòtò oníhò tí a fi alumina ṣe láti inú 99.6% Al₂O₃ tí ó ní ìmọ́tótó gíga pẹ̀lú ihò tí a ṣàkóso tí ó jẹ́ 30–45% àti ìwọ̀n ihò tí ó dọ́gba láti 10 sí 50 μm. Láìdàbí àwọn ihò oníhò, ojú ilẹ̀ tí ó ní ihò náà ń pèsè ìfọ́mọ́ tí a pín káàkiri gbogbo ẹ̀yìn wafer, èyí tí ó ń mú kí àmì etí kúrò, ó sì ń jẹ́ kí ó rọrùn láti di àwọn wafer tín-tín (≤100 μm) tàbí àwọn wafer tí ó yípo mú. Ohun èlò náà ń fúnni ní agbára ìfọ́mọ́ ≥250 MPa àti ìdúróṣinṣin ooru títí dé 400°C nínú afẹ́fẹ́.

  • Àwo Pínpín Gaasi Alumina fún Orí Ìwẹ̀ CVD/PVD

    Àwo Pínpín Gaasi Alumina fún Orí Ìwẹ̀ CVD/PVD

    A fi apẹ pinpin gaasi St.Cera (orí ìwẹ̀) ṣe é láti inú seramiki alumina tó ní ìmọ́tótó tó ga tó 99.8%. Ó ní ọ̀pọ̀lọpọ̀ ihò kékeré (ìwọ̀n 0.3–1.5 mm) tó ń rí i dájú pé gaasi náà ń ṣàn káàkiri ojú wafer nígbà tí a bá ń ṣe CVD, PVD, tàbí ALD. Agbára dielectric gíga tí a fi ṣe àwo náà (>15×10⁶ V/m) àti ìdènà plasma mú kí ó ṣe pàtàkì fún ìfipamọ́ fíìmù semiconductor.